O design High Vacuum Sputtering System Sistema de Pulverização Catódica a Vácuo por Yang Yang é um vencedor altamente estimado do prestigioso 2021 A' Design Award de Bronze na Categoria de Competição Design de Maquinaria de Fabrico e Processamento.
BronzeMaquinaria· 2021
High Vacuum Sputtering System Sistema de Pulverização Catódica a Vácuo
por Yang Yang
Cliente: Huaiyin Institute of Technology & Liaoning Petrochemical University
Vencedor do A' Design Award de Bronze na Categoria Maquinaria
Vencedor de Prémio Verificado
Verificar Estado do Prémio para #115788O Design
Sobre High Vacuum Sputtering System Sistema de Pulverização Catódica a Vácuo
O Sistema de Pulverização Catódica de Alto Vácuo é uma máquina que deposita filmes finos metálicos e dielétricos sobre substratos de até 300 milímetros. O sistema utiliza fontes de pulverização catódica por magnetron alimentadas por radiofrequência, corrente contínua ou corrente contínua pulsada, funcionando em modo único ou em modo de codeposição. Uma estrutura modular permite instalação, transporte e manutenção simples. A carcaça é feita de aço laminado a frio com conformação de chapa metálica e acabamento por pintura a pistola, uma estrutura interna de alumínio e uma cobertura em acrílico cinza translúcido. A tela de controle segue princípios ergonômicos.
O Reconhecimento
Sobre o A' Design Award de Bronze
High Vacuum Sputtering System Sistema de Pulverização Catódica a Vácuo conquistou o A' Design Award de Bronze, um reconhecimento altamente prestigiado atribuído a designs notáveis que se distinguem pela criatividade, engenho e perspicácia. Os vencedores do Bronze são artefactos amplamente habilidosos e surpreendentemente criativos que comprovam a vasta experiência, imaginação e capacidade de iniciativa dos seus designers. Espera-se que High Vacuum Sputtering System Sistema de Pulverização Catódica a Vácuo seja um objeto muito considerado, admirado e estimado, notavelmente profissional e inovador. Este design vencedor do A' Design Award de Bronze incorpora as melhores práticas em arte, ciência, design e tecnologia e é excelente pela sua atenção ao detalhe. High Vacuum Sputtering System Sistema de Pulverização Catódica a Vácuo satisfaz esplendidamente necessidades, toca desejos, encanta sentimentos e desperta curiosidade.
Por Trás do Design
Kit de Imprensa
Créditos, membros da equipa e detalhes técnicos fornecidos pelo designer.
- Propriedades Únicas
- This Ultra High Vacuum Sputtering System subverts the traditional model. On the basis of the functional machine, it integrates many factors for industrial design according to the requirements of the users and the environments. This system mainly adopts modular combination mode, which is convenient for combined installation, transportation and maintenance.The overall shape design is neat and beautiful, the surface treatment is fine, the fuselage is matched with the translucent acrylic mask in gray tone, giving people a simple, modern and beautiful feeling. Ergonomics and interactions are reflected in the design of the control screen.
- Dimensões e Embalagem
- Width 2800mm x Depth 1200mm x Height 1500mm
- Etiquetas
- Vacuum magnetron sputtering, UHV SPUTTER，Large equipment
- Tecnologia de Produção
- The main material of the shell is high quality cold plate, which uses sheet metal forming process and environmental protection spray technology, internal skeleton for aluminum, mask for acrylic material. The fuselage design adopts screen printing process.
- Desafio de Design
- The most difficult part of this design exercise is the matching relationship between the whole system, the operating mode, ergonomic design, and the interaction design in the control system.
- Pesquisa
- On the market，this kind of products are mainly functional machines, lack of ergonomic design. The surface treatment and texture of material are rough, the modelling lack modern design sense. The Ultra High Voltage Sputter System is a school-enterprise cooperation project completed by designers and engineers jointly. This is an improved product design based on the university's scientific research background and technical conditions of the update and improvement.
- Inspiração
- The Ultra High Vacuum Sputtering System is used in world-famous research laboratories of superconducting and quantum devices. The market is dominated by functional machines with bare devices and circuits, which don’t match the modern and intelligent test environment. Therefore, the integrated design of the system should be carried out to ensure the overall beautiful appearance design, in line with the ergonomic control design and the innovative design of human-computer interaction.
- Duração do Projeto
- The project began in January 2020 in Huai 'an, Jiangsu Province, China, and ended in November 2020 in Huai 'an, Jiangsu Province, China.
- Fluxo de Operação
- Ultra High Vacuum Sputtering System can deposit metal and dielectric thin films on substrates up to 300mm. Magnetron sputtering sources using RF, DC, or pulsed DC power sources can operate in single mode or co-deposition mode to produce films that meet a wide range of requirements.
- Membros da Equipa
- Yang Yang
Lei Wang
Menghua Wang
Chi Rui
Yu Jiang
Shuchang Cui
Zhe Li - Créditos de Imagem
- Image #1: Photographer Yang Yang, Variations, 2020.
Image #2: Photographer Lei Wang, Variations, 2020.
Image #3: Photographer Menghua Wang, Variations, 2020.
Image #4: Photographer Lei Wang, Variations, 2020.
Image #5: Photographer Lei Wang, Variations, 2020.
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