Culture to Technology Identity Плакат ад Lei Wang

Праца Culture to Technology Identity Плакат аўтарства Lei Wang з'яўляецца высокаацэненым лаўрэатам вельмі прэстыжнай узнагароды 2025 Плацінавая прэмія A' Design Award у катэгорыі конкурсу Дызайн графікі, ілюстрацыі і візуальнай камунікацыі.

ПлацінаГрафіка· 2025

Culture to Technology Identity Плакат

ад Lei Wang

Кліент: Hefei High Tech Digital Technology Co., LTD.

Лаўрэат узнагароды Плацінавая прэмія A' Design Award у катэгорыі Графіка

1,514,114

Верыфікаваны лаўрэат

Праверыць статус узнагароды для #172335

Глядзець на A' Design Award Прэс-рэліз Значок узнагароды

Колеры

Дызайн

Пра Culture to Technology Identity Плакат

Ад культуры да тэхналагічнай ідэнтычнасці — гэта плакат, распрацаваны для размяшчэння ў светлавых боксах на аўтобусных прыпынках. У верхняй частцы кітайскі іерогліф, які абазначае Аньхой, абрамлены класічнымі контурамі архітэктуры Хуэйчжоу, што нагадвае пра гісторыю і культуру рэгіёна. Іерогліф паступова трансфармуецца ў электронную схему, якая завяршаецца чатырма кітайскімі іерогліфамі, што абазначаюць «Хэфэй Хай-Тэк». Памеры плаката — 60 на 90 сантыметраў. Градыентныя блакітныя адценні надрукаваны з выкарыстаннем наддрукоўкі плашкавымі фарбамі, а лініі схемы пакрыты выбарачным УФ-лакам для стварэння рэльефнага эфекту.

Прызнанне

Пра Плацінавая прэмія A' Design Award

Culture to Technology Identity Плакат — пераможца Плацінавай прэміі A' Design Award, надзвычай прэстыжнага прызнання, якое прысуджаецца сапраўды выключным, элегантным і велічным дызайнам. Плацінавыя пераможцы — гэта цуды творчасці, сведчанні межаў інтэлектуальнай творчасці, і яны дэманструюць непараўнальны прафесіяналізм і геніяльнасць сваіх дызайнераў. Ад гэтых дызайнаў чакаецца, што яны будуць самымі вядомымі працамі, якія вызначаюць эстэтыку эпохі, спрыяюць дабрабыту грамадства і пашыраюць межы мастацтва, навукі, дызайну і тэхналогій. Culture to Technology Identity Плакат дэманструе ўзвышаны ўзровень дасканаласці і бясспрэчна робіць свет лепшым месцам сваімі выгоднымі і каштоўнымі характарыстыкамі. Culture to Technology Identity Плакат — гэта пераможная праца Плацінавай прэміі A' Design Award, якая абуджае жаданні, натхняе, радуе і выклікае вялікую радасць.

За кулісамі дызайну

Прэс-кіт

Аўтарства, удзельнікі каманды і тэхнічныя дэталі, прадстаўленыя дызайнерам.

Унікальныя ўласцівасці: In the upper section, the Chinese character for Anhui is framed by the classic contours of Huizhou architecture, underlying the profound historical and cultural legacy. This character gradually transforms into a circuit, symbolizing technological advancement, culminating in the four Chinese characters for Hefei High Tech. This progression illustrates the shift from cultural imagery to technological representation, forming the visual centerpiece of the entire composition.
Памеры і ўпакоўка: 60X90cm
Тэгі: Anhui, Hui Style Architecture, Traditional Culture, Hefei High Tech Zone, Technology, Innovation, History, Future, Convergence
Тэхналогія вытворчасці: The design features high precision drawings at 300dpi. For the bus stop light box, the dimensions are set at 60×90cm, reserving a 3mm bleed and crease for die cutting. The gradient blues utilize spot color overprinting, while circuit lines are enhanced with UV local varnish to create a 3D effect. The production process rigorously ensures color calibration and alignment accuracy to fulfill the requirements for long-term outdoor display.
Дызайнерскі выклік: Creating a seamless transition between the traditional profiles of Huizhou architecture and modern circuit designs poses a significant challenge for designers. This requires a command in proportion, structural arrangement, and color application. The background features a gradient of blue tones, capturing the essence of Jiangnan, where Huizhou culture thrives, and symbolizing a forward looking perspective filled with endless possibilities in science and technology.
Даследаванне: In recent years, Anhui has leveraged scientific and technological innovation to drive new quality productivity, achieving remarkable results in sectors such as NEVs, intelligent manufacturing, quantum information, and green energy. This focus on innovation has established science and technology as a new hallmark for Anhui. The Hefei High Tech Zone stands at the forefront of this wave of technological advancement in the region.
Натхненне: The advancement of the Hefei High Tech Zone, which facilitates the transition of. Anhui Province from a culturally rich region to a hub of science and innovation, serves as the central theme of this poster. As the capital of Anhui Province, Hefei boasts a rich heritage of Huizhou culture, where traditional Huizhou architecture seamlessly merges with modern technology and innovation, as if it were starting a dialogue that bridges the past and the future, and painting a vibrant scene at their intersection.
Працягласць праекта: The project commenced in Hefei in February 2025 and wrapped up in March 2025, with its application in various scenarios commencing the same month.
Аперацыйны працэс: The layout design adheres to the principles of simplicity, emphasizing unity and purity. Coupled with the gradient blues that permeate the entire image, it fosters an aesthetic appeal with an oriental influence. The dynamic flow of the circuit lines enhances the visual guidance, encouraging viewers to follow the designated path and delivering an engaging reading experience.
Патэнты: Hefei High Tech Digital Technology Co., LTD.
Удзельнікі каманды: Creative Director: Ji Chao
Design Director: Xu Ning
Designers: Jin Lei, Wang Lei
Copywriting planning: Zhou Jiaxiang
Аўтары выяў: Hefei High Tech Digital Technology Co., LTD.